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化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并...

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各...

PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在...

CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，化學(xué)氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lb...

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